Apple sta testando una nuova tecnologia di rivestimento ottico antiriflesso per le future fotocamere degli iPhone che potrebbe migliorare la qualità delle foto, riducendo artefatti come il riflesso dell’obiettivo e le cosiddette immagini “ghosting”.
Secondo una nuova voce, che cita una fonte aziendale all’interno della catena di fornitura dell’azienda, Apple sta cercando di introdurre nuove apparecchiature per la deposizione di strato atomico (ALD) nel processo di produzione delle lenti della fotocamera dell’iPhone.
L’ALD prevede il deposito dei materiali uno strato atomico alla volta su un substrato, consentendo un controllo estremamente preciso su spessore e composizione. Il suo utilizzo consente ai produttori di applicare strati molto sottili su dispositivi a semiconduttore, compresi i componenti della fotocamera.
In termini di obiettivi fotografici, l’ALD può essere utilizzato per applicare rivestimenti antiriflesso, che aiutano a ridurre gli artefatti fotografici come strisce di luce e aloni che possono verificarsi nell’immagine finale quando una fonte di luce intensa come il sole splende direttamente nell’immagine inquadrata dalla lente.
L’ALD può anche ridurre l’effetto ghosting, un tipo di distorsione dell’immagine in cui nella foto appaiono deboli immagini secondarie, in genere di fronte a una fonte di luce intensa. Ciò accade quando la luce si riflette avanti e indietro tra le superfici degli elementi dell’obiettivo e il sensore della fotocamera.
Inoltre, i materiali applicati con ALD possono proteggere il sistema di obiettivi della fotocamera dai danni ambientali senza compromettere la capacità del sensore di catturare la luce in modo efficace.
Secondo queste voci, il nuovo processo di produzione sarà applicato a un “modello Pro” nella linea di iPhone di “prossima generazione”, il che suona come un riferimento a uno o entrambi i modelli premium della serie iPhone 16, anche se visti i tempi, non possiamo escludere l’arrivo di questa novità solo con gli iPhone 17 Pro.